| key | value | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| course_id | 110-0057 | ||||
| mark_id | MPDT0027-21 | ||||
| course_name | 《歷史資料》半導體微影製程 | ||||
| course_type | 自行分析職能 | ||||
| course_level | 2 | ||||
| develop_unit | 國立高雄大學 | ||||
| start_date | 110.06.04 | ||||
| end_date | 113.06.04 | ||||
| detail_url | https://icap.wda.gov.tw/Resources/resources_Class_List_Detail.aspx?K=W&C=110-0057 | ||||
| mark_id_detail | MPDT0027-21 | ||||
| start_date_detail | 110.06.04 | ||||
| end_date_detail | 113.06.04 | ||||
| course_name_detail | 《歷史資料》半導體微影製程 | ||||
| develop_unit_detail | 國立高雄大學 | ||||
| course_type_detail | 自行分析職能 | ||||
| course_level_detail | 2 | ||||
| domain | 製造/製程研發 | ||||
| content_url | https://icap.wda.gov.tw/Resources/resources_Class_Content_3.aspx?C=110-0057&K=W | ||||
| class_id | MPDT0027-21 | ||||
| company | 國立高雄大學 | ||||
| cooperation | 無填寫 或 非可開課之協力單位 | ||||
| name | 《歷史資料》半導體微影製程 | ||||
| train_hours | 54小時 | ||||
| class_area | 製造/製程研發 | ||||
| class_type_id | 自行分析職能 | ||||
| job_name | MPD 製造-製程研發 | ||||
| develop_type | 部份職業/職類能力養成 | ||||
| task | |||||
| reference | 是(參考基準) | ||||
| class_level | 2 | ||||
| description | 「半導體微影製程概論」的規劃是參照iCAP網站公告之「半導體產業製造-製程工程師職能基準」並與半導體微影製程業界專家共同討論，進而發展出的以半導體微影製程初級職能為導向的課程。本課程之教學目標是在培育學生具備初級微影工程師的行為指標與職能內涵，增加學生的就業競爭力，降低學生學產接軌之的落差與產業的人才培訓時間/成本。完訓學生適合擔任半導體微影製程或相關模組製程新進工程師職務。本課程設計為54小時三學分，課程內容包含與時俱進的半導體產業介紹、光阻與光化學、微影成像原理、曝光設備技術、極紫外光(EUV)微影技術、光罩技術、 Resolution enhancement techniques (RET) 、Track設備與製程、 量測技術與SEM實作、統計分析與生產控制。教學對象為理工系所具半導體製程技術先備知識之大三以上學生。課程的學習成果評量包含兩次紙筆測驗、繳交前瞻微影製程技術報導之閱讀報告與微影製程窗數據處理報告、出席率四項成績總和。 | ||||
| target | 大三以上理工科系學生 | ||||
| essential | 大學理工科系大三以上學生，須曾修習普通化學(三學分以上)、普通物理(三學分以上)、半導體製程概論(或授課教師認可之等同課程，三學分)課程者。 | ||||
| attachments |
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